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测厚仪膜厚仪———广州景颐光电科技有限公司是一家专门做膜厚仪的厂家

测厚仪膜厚仪检测镀层厚度的原理

磁性测厚法是利用被测试样与标准磁体之间的吸引力的变化来转换成镀层的厚度。这种方法只能适用于对磁性能敏感的基体上的非磁性镀层,如钢铁基体上的铜、锌、锡等镀层。钢件上的镍镀层就不能很好地测量出结果。      

磁性测厚法的优点是对钢铁基体上的非磁性镀层提供了一种快速的测量方法,其准确度可达85%-90%。测量样件的粗糙度对测量结果有影响。

如果被测件的基体很薄时,光谱测厚仪膜厚仪,比如样片厚度低于0.25mm时,会有较大测量误差,这时可以在样片后另加一个与基体材料相同的厚一些的无镀层材料来减少误差。      

磁性法的缺点是受磁性能要求的限制,所以适应于该方法的基体材料和镀层有限。

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光学膜厚仪的应用

光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜,并且还有半导体液晶显示器等一系列的材料和产品的测量。一般的产品我们可以拿尺来进行测量,对精度要求也不高。但是对薄膜等产品来说,精度是关系到产品的组装和性能的,所以一定要测量。测量仪功能不能能够准确的进行测量,还能及时的显示出数据。

其次可以计算薄膜厚度,一般采用光干涉法,薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,反射测厚仪膜厚仪,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

再次,上海测厚仪膜厚仪,就是操作方便,效率较高。这种优势对于薄膜测试的时候是非常重要的,毕竟薄膜测试是一种比较枯燥的工作,如果测试又比较繁杂的话,会使人心情焦躁,难免会影响测试时间和测试结果。

而操作方便,容易上手,几秒钟内即可完成测量和数据分析,发展潜力巨大。


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光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜产品的测量

光学膜厚仪的薄膜光谱反射系统,可以很简单快速地获得薄膜的厚度及nk,采用r-θ极坐标移动平台,可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度,国产测厚仪膜厚仪,可随意选择一种或极坐标形、或方形、或线性的图形模式,也可以编辑自己需要的测试点。

针对不同的晶圆尺寸,盒对盒系统可以很容易的自动转换,匹配当前盒子的尺寸。

用激光粒度分布仪测试胶体的粒度分布时应配合其它检测手段验证测试结果的准确性,同时应使用去离子水作为分散介质,防止自来水中的电解质造成颗粒团聚影响测试结果。

适用于已知折射率的单一物质粒度分布测试,因此测试前要知道被测样品的折射率,折射率选取的不同会对测试结果造成一定的影响。


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