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光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜产品的测量

光学膜厚仪的薄膜光谱反射系统,光谱膜厚分析仪,可以很简单快速地获得薄膜的厚度及nk,采用r-θ极坐标移动平台,膜厚分析仪价位,可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度,可随意选择一种或极坐标形、或方形、或线性的图形模式,也可以编辑自己需要的测试点。

针对不同的晶圆尺寸,盒对盒系统可以很容易的自动转换,匹配当前盒子的尺寸。

用激光粒度分布仪测试胶体的粒度分布时应配合其它检测手段验证测试结果的准确性,同时应使用去离子水作为分散介质,防止自来水中的电解质造成颗粒团聚影响测试结果。

适用于已知折射率的单一物质粒度分布测试,因此测试前要知道被测样品的折射率,折射率选取的不同会对测试结果造成一定的影响。


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膜厚测量仪测量的基本原理

在膜厚测量仪中,比较流行的测量原理就是电涡流测量原理,我们一起来对电涡流测量原理进行比较详尽的学习,高频的交流信号一般会在侧头线圈中产生一定的电磁场,当测试的探头靠近导体的时候,就会在它的附加产生涡流。

如果测试探头离导体的基体越近,它的涡流就会越大,反射阻抗肯定也会更大。事实上,这是一个反馈作用的过程,这个过程中表征了测试探头与导电基体之间距离的大小,换句话说,这就是导体导电基体上非导电覆层厚度的大小。

采用电涡流测试的原理,原则上需要对导体上的非导电体覆盖层均可以进行测量,聊城膜厚分析仪,技术人员告诉我们,覆层材料是有一定的导电性的,通过校准也是可以同时进行测量的,不过在这其中,有一个比较明显的要求就是两个的导电率是相差3到5倍左右。

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区分涂层测厚仪与无损涂层测厚仪关键性在于哪些方面

涂层测厚仪与无损涂层测厚仪的差别,重要如下所述。涂层测厚仪跟无损涂层测厚仪,分光膜厚分析仪,都是用来丈量资料名义厚度的,然而涂层测厚仪与无损涂层测厚仪之间存在必定的差别。下面咱们详细来先容涂层测厚仪与无损涂层测厚仪的差别。

涂层测厚仪与无损涂层测厚仪的差别:

涂层测厚仪,重要用在名义处置行业,是用来丈量金属或塑胶名义的涂层厚度。

无损涂层测厚仪,分为磁性跟涡流两种,也有磁性涡流二合一两用型的。常用于丈量底材是金属的名义镀层的厚度,以是也叫做镀层测厚仪。

磁性测厚仪专丈量磁性金属如钢铁下面镀层厚度(镀层除磁性金属,如钢铁、镍以外),非磁性的铜、铝、锡等下面的镀层就测不了。涡流测厚仪专丈量非磁性金属,比方铜、铝等下面的绝缘层厚度(涂层必需长短导电资料)。


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