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发布时间: 2022-12-13 14:04
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膜厚检测仪的使用方法:

测定准备

(1)确保电池正负极方向正确无误后设定。

(2)探头的选择和设定:在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象,在本体上进行设定。

测定方法

(1)探头的选择和安装方法:确认电源处于OFF状态,与测定对象的质地材质接触,安装LEP-J或LHP-J。

(2)调整:确认测定对象已经被调整。未调整时要进行调整。

(3)测定:在探头的末端加一定的负荷,即使用[一点接触定压式]。抓住与测定部接近的部分,半导体全自动膜厚仪,迅速在与测定面成垂直的角度按下。

下述的测定,每次都要从探头的前端测定面开始离开10mm以上。使用管状的东西连续测定平面时,如果采用探头适配器,可以更加稳定地进行测定。

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光学膜厚仪的应用

光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜,宣城全自动膜厚仪,并且还有半导体液晶显示器等一系列的材料和产品的测量。一般的产品我们可以拿尺来进行测量,对精度要求也不高。但是对薄膜等产品来说,精度是关系到产品的组装和性能的,所以一定要测量。测量仪功能不能能够准确的进行测量,还能及时的显示出数据。

其次可以计算薄膜厚度,一般采用光干涉法,国产全自动膜厚仪,薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

再次,就是操作方便,全自动膜厚仪批发,效率较高。这种优势对于薄膜测试的时候是非常重要的,毕竟薄膜测试是一种比较枯燥的工作,如果测试又比较繁杂的话,会使人心情焦躁,难免会影响测试时间和测试结果。

而操作方便,容易上手,几秒钟内即可完成测量和数据分析,发展潜力巨大。


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测厚仪膜厚仪检测镀层厚度的原理

磁性测厚法是利用被测试样与标准磁体之间的吸引力的变化来转换成镀层的厚度。这种方法只能适用于对磁性能敏感的基体上的非磁性镀层,如钢铁基体上的铜、锌、锡等镀层。钢件上的镍镀层就不能很好地测量出结果。      

磁性测厚法的优点是对钢铁基体上的非磁性镀层提供了一种快速的测量方法,其准确度可达85%-90%。测量样件的粗糙度对测量结果有影响。

如果被测件的基体很薄时,比如样片厚度低于0.25mm时,会有较大测量误差,这时可以在样片后另加一个与基体材料相同的厚一些的无镀层材料来减少误差。      

磁性法的缺点是受磁性能要求的限制,所以适应于该方法的基体材料和镀层有限。

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