膜厚分析仪———广州景颐光电科技有限公司是一家专门做膜厚仪的厂家

光学膜厚仪的应用

光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜，膜厚分析仪价格，并且还有半导体液晶显示器等一系列的材料和产品的测量。一般的产品我们可以拿尺来进行测量，对精度要求也不高。但是对薄膜等产品来说，精度是关系到产品的组装和性能的，国产膜厚分析仪，所以一定要测量。测量仪功能不能能够准确的进行测量，还能及时的显示出数据。

其次可以计算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

再次，就是操作方便，效率较高。这种优势对于薄膜测试的时候是非常重要的，毕竟薄膜测试是一种比较枯燥的工作，如果测试又比较繁杂的话，会使人心情焦躁，难免会影响测试时间和测试结果。

而操作方便，容易上手，几秒钟内即可完成测量和数据分析，发展潜力巨大。

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光学膜厚测量仪

光学膜厚仪是通过测量一定波长内光线垂直入射到样品表面时，薄膜表面的反射光来测量薄膜的厚度、粗糙度及光学常数。由于光学测量膜厚方法准确、无破坏，且光谱反射法比椭偏仪操作简单、测试速度快，适合测量具有结构的薄膜。

设备性能指标：

1、测量薄膜厚度范围：4nm～30um（使用10x、15x物镜，样品折射率为1.5左右时，4nm～2um（使用40x物镜）；

2、测试面积：光栏尺寸（250um）/物镜倍率；

3、该设备显微镜物镜：5x、10x、15x、40x。其中5x物镜用于寻找测试区域，南阳膜厚分析仪，10x和15x物镜用于测试薄膜厚度；

4、40x物镜用于测试厚度低于2um的薄膜厚度；

5、测试精度：测试膜层总厚度的0.2%或2nm中的较大者；

6、光源：灯、钨灯；

7、测试波长范围：190nm～1100nm；

8、大测试样品尺寸：8寸。

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关于膜厚测量仪的介绍

景颐光电新款膜厚测量仪FILMTHICK-C100利用光干涉原理，机械结构集成的进口卤钨灯光源，光学膜厚分析仪，使用寿命超过20000小时，紧凑设计保证了测量的高度准确性和可重复性。

通过内嵌式微处理器控制，小型光谱仪，光谱范围200NM -250ONM（波长范围根据配置选择)，分辨精度可达3648像素，16位级A/D分辨精度。配有USB通讯接口。FILMTHICK对样品进行非接触式、无损、高精度测量，可测量反射率、颜色、膜厚等参数。

可应用于光伏、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量，在半导体、太阳能、液晶面板和光学行业以及科研所和高校都得到广泛的应用。

OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、极值法、拟合法多种高精度算法，包含了类型丰富的材料折射率数据库，开放式材料数据库，有效地协助用户进行测试分析，测量期间能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。

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